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德國 iPLAS 的 CYRANNUS 微波電漿系統採用新一代電子迴轉共振微波電漿源(ECR Plasma Source),可獲得更高能量與電流密度,這對鑽石薄膜沈積的製程來說相當重要,因此 CYRANNUS 微波電漿系統在鑽石薄膜沈積的應用上有著極為優異的表現。除了鑽石薄膜的沈積外,CRYANNUS 微波電將系統亦可使用於改善基材附著力、選擇性蝕刻(selective etching)、氣體活化(gas activation)、污染物削減(abatement)、超奈米晶鑽石薄膜(UNCD,Ultrananocrystalline Diamond)等領域。

CYRANNUS 微波電漿鍍膜系統基本上都是按照客戶的需求來量身打造,因此在本網站上不提供一套制式的規格表或訂購單。下面所列舉的三款設備都是以標準模組化的元件所建構,若客戶有指定特殊規格,IPLAS 能完全按照客戶的需求打造設備。

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