CCR：不傷表面的中性電漿技術
CCR Technology 的 COPRA射頻電漿源的離子能量可獨立控制，不因 RF 功率輸出的大小而變化，可有效抑制膜質缺陷的產生！提供矩形、圓形、內建式 RF 電漿源供您選用。
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Sairem：大面積表面微波電漿改質
Sariem Aura-wave、Hi-Wave 微波電漿源可提供高電漿密度，電漿源可排列為陣列，且陣列上的每個ECR電漿源可獨立控制其功率，讓大面積的基板表面電漿改質處理更均勻！
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Temescal：抗坩堝污染的電子鎗
Temescal Pop-top 電子鎗採氣浮式上蓋設計，可有效遮蔽材料噴濺、減少鄰近坩堝受到污染。另具備獨特水冷設計，材料不易沾粘在坩堝上，可延長電子鎗的使用壽命。
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NovaFabrica：電漿製程控制
Nova Fabrica 一系列 PMT / CCD 型電漿光譜分析儀可作為電漿製程、反應式濺鍍製程等精密作業的監控器，可有效改善鍍膜速率與製程條件再現性，並改善薄膜品質與表面處理效果。
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Colnatec：晶振式薄膜監控儀
藉由可量測溫度的 Phoenix / Tempe 石英振盪感測頭及 EonID 膜厚儀的組合，可排除溫度干擾石英晶片震盪頻率之干擾，Colnatec 給您最精準的即時晶振式薄膜量測方案。
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