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CCR:不傷表面的中性電漿技術

CCR Technology 的 COPRA射頻電漿源的離子能量可獨立控制,不因 RF 功率輸出的大小而變化,可有效抑制膜質缺陷的產生!提供矩形、圓形、內建式 RF 電漿源供您選用。

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Sairem:大面積表面微波電漿改質

Sariem Aura-wave、Hi-Wave 微波電漿源可提供高電漿密度,電漿源可排列為陣列,且陣列上的每個ECR電漿源可獨立控制其功率,讓大面積的基板表面電漿改質處理更均勻!

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Temescal:抗坩堝污染的電子鎗

Temescal Pop-top 電子鎗採氣浮式上蓋設計,可有效遮蔽材料噴濺、減少鄰近坩堝受到污染。另具備獨特水冷設計,材料不易沾粘在坩堝上,可延長電子鎗的使用壽命。

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NovaFabrica:電漿製程控制

Nova Fabrica 一系列 PMT / CCD 型電漿光譜分析儀可作為電漿製程、反應式濺鍍製程等精密作業的監控器,可有效改善鍍膜速率與製程條件再現性,並改善薄膜品質與表面處理效果。

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Colnatec:晶振式薄膜監控儀

藉由可量測溫度的 Phoenix / Tempe 石英振盪感測頭及 EonID 膜厚儀的組合,可排除溫度干擾石英晶片震盪頻率之干擾,Colnatec 給您最精準的即時晶振式薄膜量測方案。

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PlasGenie:高效電漿表面改質機

採用具備匹配功能之射頻電源,可有效傳送能量、產生高密度電漿,發揮電漿表面改質、表面蝕刻、光阻灰化、分子接枝、離子植入等功能,是材料表面研究時必備的設備。

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