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SEM下矽晶圓上以CYRANNUS系統沈積的鑽石薄膜（左圖）
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德國 iPLAS 的 CYRANNUS 微波電漿系統採用新一代電子迴轉共振微波電漿源（ECR Plasma Source），可獲得更高能量與電流密度，這對鑽石薄膜沈積的製程來說相當重要，因此 CYRANNUS 微波電漿系統在鑽石薄膜沈積的應用上有著極為優異的表現。除了鑽石薄膜的沈積外，CRYANNUS 微波電將系統亦可使用於改善基材附著力、選擇性蝕刻（selective etching）、氣體活化（gas activation）、污染物削減（abatement）、超奈米晶鑽石薄膜（UNCD，Ultrananocrystalline Diamond）等領域。
CYRANNUS 微波電漿鍍膜系統基本上都是按照客戶的需求來量身打造，因此在本網站上不提供一套制式的規格表或訂購單。下面所列舉的三款設備都是以標準模組化的元件所建構，若客戶有指定特殊規格，IPLAS 能完全按照客戶的需求打造設備。
但為了讓您更了解CRYANNUS微波電漿鍍膜系統，一份簡易的規格表還是有其參考價值。
請參考下列規格說明，並歡迎您與我們聯繫，好讓我們更深入了解您的需求：
| Specification |
Description |
| Plasma Source |
- CYRANNUS® I at 6" or 10.5"
- larger size on request
- diameter of plasma chamber 6" or 10.5"
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| Microwave |
- 2.45 GHz / 6kW continuous wave
- switch mode power supply
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| Tuner |
- automated EH tuning element controlled by PLC
- different working modes for easy operation
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| Substrate Holder |
- heated or cooled substrate holder (optional)
- prepared for bias (optional)
- automated substrate positioning (optional)
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| Vacuum |
- chamber directly connected to plasma source
- load lock door for substrate feeding
- double step rotary vane pump with N2 bypass
- pressure control
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| Process Gas |
- individual gas flow controller
- gas shower inside plasma source
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| Automation |
- control system built of modular devices
- PLC Simatic* S7
- field bus Profibus*
- process parameters displayed
- input or change of process parameters on screen
- different recipes can be stored in the PLC
- process documentation module (optional)
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| Safety |
- multiple secured safety circuits
- interlocks by hardware and PLC
- CE conformity
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