濺鍍耗材 Sputtering Targets

我們提供高純真空鍍膜之靶材，適用於濺鍍製程，可依據下列需求為您製作：

• 靶材形狀：圓形、方形、薄片、條狀及各式形狀靶材
• 靶材材質：貴金、純金屬、合金、化合物
• 純度：99.5%至99.999%
• 背板：銅、鋁、鈦等