斜向蒸鍍

01 02 TiO2 01 TiO2 02

 

斜向鍍膜是藉由調整基板與蒸發源的相對位置與角度,讓材料原子在基板上進行週期性的沈積,因此形成上圖中具備三維奈米結構的薄膜。透過此方法所製備出來的薄膜具備改變光與電磁波的自然性質,例如:負折射係數,而這樣的效果是傳統材料無法實現的,因此這類材料被稱之為超材料(metamaterial)。從材料化學組成上來看,這些薄膜沒有什麼特別之處,它們的奇特性質源於其精密的幾何結構以及尺寸大小。超材料可應用於電子工程、凝聚態物理、光電子學、材料科學、半導體科學、生物醫學、奈米科技等不同領域。俊尚科技的 EBS500-GLAD 可滿足客戶探索不同奈米結構薄膜的需求,設備規格如下:

 

設備外觀設備規格
EBS500 GLAD

設備型號:EBS500-GLAD

  • 真空環境: HV / UHV
  • 材料蒸發:以電子束轟擊蒸發材料,電子束具備 Sweep 功能
  • 儀控軟體:具備 GLAD 製程模擬軟體輔助蒸發製程
  • 試片尺寸: Dia. 4" 晶圓 x1 pc 
  • 試片溫控:0 ~ 25 °C
  • 試片轉速:0.01 ~ 10 rpm
  • 試片角度:0 ~ 180°