濺鍍鎗 Magnetron Sputtering Source

tfc

德國 Thin Film Consulting (TFC)憑藉著慎密的設計以及在研究與工業量產領域所累積的多年經驗,開發出IONIX系列磁控濺鍍鎗具備優異的薄膜沈積速率、靶材利用率以及膜厚均勻性,除了可廣泛應用於傳統各類濺鍍應用外,亦可應用於鐵-磁類材料之濺鍍、HIPIMS以及反應式濺鍍。IONIX 系列磁控濺鍍鎗具備下列特色:

 

  • 磁鐵陣列與冷卻水路採隔離式設計,避免磁鐵被腐蝕
  • 複極式磁鐵陣列設計可提升靶材利用率,減少貴金屬成本
  • 可於 5 x 10-4 mbar以下的真空氛圍下使用,提升薄膜品質

 

以下是各款 IONIX 磁控濺鍍槍的產品資訊。