射頻電漿源 RF Plasma Source

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在真空鍍膜的領域中,適當運用高密度電漿除了能獲得緻密的鍍膜品質外,也能在低溫狀態下完成鍍膜,避免高溫對於鍍膜品質產生不之良影響,因此如何獲致高密度之電漿是各家設備商極力開發之關鍵製程技術。俊尚科技提供您德國 CCR Technology 的 COPRA 電漿源,其特色如下:

 

  • 能產生極大之離子電流密度
  • 離子能量(Ion Energy) 可獨立控制,不因RF電源的輸出大小而變化。可針對特定製程設定所需的離子能量,抑制膜質缺陷的生成
  • 可廣泛應用於各種電漿製程,例如:離子輔助蒸鍍、離子輔助反應性濺鍍、電漿輔助化學氣相沉積、電漿表面改質與清潔、電漿蝕刻應用等