濺鍍耗材 Sputtering Targets

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我們提供高純真空鍍膜之靶材,適用於濺鍍製程,可依據下列需求為您製作:

  • 靶材形狀:圓形、方形、薄片、條狀及各式形狀靶材
  • 靶材材質:貴金、純金屬、合金、化合物
  • 純度:99.5%至99.999%
  • 背板:銅、鋁、鈦等