CVD 鍍膜技術


化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)是一種用來產生純度高、性能好的固態材料的化學技術。半導體產業或光電產業使用此技術來沉積不同晶形的材料(單晶、多晶、非晶及磊晶),而所沈積的材料則涵蓋鑽石、類鑽碳(Diamond-like carbon,DLC)、矽、碳纖維、碳奈米纖維、奈米線、奈米碳管、SiO2、矽鍺、鎢、矽碳、氮化矽、氮氧化矽及各種不同的 high-k 材料。典型的化學氣相沉積製程是將基板暴露在一種或多種不同的前驅物下,在基底表面發生化學反應或及化學分解來產生待沉積的薄膜。反應過程中通常也會產生許多不同的副產品,但大多會隨著氣流被帶走,而不會留在反應腔中。總的來說,只要原料可轉變為蒸氣,幾乎所有種類的膜都可形成。CVD又可延伸出幾種不同的方式,以下將依序介紹。