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精密光學元件蒸鍍系統

EBS-500 電子鎗蒸鍍系統特點:JST EBS-500 系統外觀

 

  • 可透過膜厚計進行自動化蒸鍍,亦可手動控制。
  • 抽氣效率佳,30分鐘內可至 5 x 10E-6 Torr;12小時內可至 8 x 10E-7 Torr。
  • 電子鎗源輸出穩定性高,可保持 0.1 A/s 的穩定蒸鍍速率。
  • 搭配 CCR DN200 電漿源,高密度 ICP 中性電漿輔助鍍膜。
  • 無須燈絲或中和器,中性電漿直接轟擊基板,無產生電弧(arc)疑慮,可進行純氧製程。

 

EBS-500 電子鎗蒸鍍系統規格:


腔體尺寸 500mm x 650mm(D x H),前開式腔門
電子鎗電源 Temescal,CV-6SLX
電子鎗坩鍋 Temescal 1CK:4 x 7 c.c

Temescal 2CK:4 x 25 c.c / 6 x 15 c.c

電子鎗掃描 Temescal Super Sweep64
真空幫浦 10" Cryo Pump + Mechanical Pump
電漿源 CCR DN200
RF 電源 Max. RF 600W
基板尺寸 單片式(4" Wafer)
基板加熱裝置 800℃
基板旋轉 5~40 rpm,採用磁性流體旋轉端子
電力需求 220V,3ph,75A
冷卻水需求 30 liter/min;24,000 BTU
空壓源需求 6 Kg/cm2
主機台佔地面積 1,500mm x 1,100mm