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鑽石膜成長微波電漿化學氣相沈積系統

微波電漿輔助化學氣相沈積系統特色:


  •  微波電漿源:採用無電極式電漿激發確保製程絕對無污染,可產生高效率、高離子密度的電漿。製程氣體與前驅物可由客戶端自行選擇搭配。點此知原理!
  • 可製備各種碳相關的鍍膜:crystalline diamond、highly oriented diamond、nano crystalline diamond、carbon nanotube / diamond like carbon
  • 符合規模經濟的生產速度:鑽石膜成膜速度快,並可大面積鍍膜,系統具備高穩定度,於長時間操作使用亦可確保鍍膜品質的一致性。
  • 簡易的操作與維護:可快速產生電漿、系統只需要最低程度的保養,以及簡單的操作方法。

 CYRANNUS 系統運作    除可用於大面積鍍膜外,亦可進行多晶種成長   透過 CRYANNUS 所得到的高緻密、高均整的鍍膜

 

微波電漿輔助化學氣相沈積系統規格:

CYRANNUS 手動系統,適用於研究發展     CYRANNUS 半自動系統,適用於發展小規模產量     CYRANNUS 全自動系統,適用於量產

每一套微波電漿鍍膜系統基本上都是按照客戶的需求來量身打造!因此在我們的網站上看不到一套制式的規格表或訂購單,而您在上圖所看到的三款系統都是採用標準、模組化的元件,但若客戶有獨特的指定規格,IPLAS也能完全按照客戶的需求打造設備。

 

但為了讓您更了解CRYANNUS微波電漿鍍膜系統,一份簡易的規格表還是有其參考價值。請參考下列規格說明,並歡迎您與我們聯繫,好讓我們更深入了解您的需求:

 

plasma source

- CYRANNUS® I at 6" or 10.5"
- larger size on request
- diameter of plasma chamber 6" or 10.5"

microwave

- 2,45 GHz / 6kW continuous wave
- switch mode power supply

tuner

- automated EH tuning element controlled by PLC
- different working modes for easy operation

substrate holder

- heated or cooled substrate holder (optional)
- prepared for bias (optional)
- automated substrate positioning (optional)

vacuum

- chamber directly connected to plasma source
- load lock door for substrate feeding
- double step rotary vane pump with N2 bypass
- pressure control

process gas

- individual gas flow controller
- gas shower inside plasma source

automation

- control system built of modular devices
- PLC Simatic* S7
- field bus Profibus*
- process parameters displayed
- input or change of process parameters on screen
- different recipes can be stored in the PLC
- process documentation module (optional)

safety

- multiple secured safety circuits
- interlocks by hardware and PLC
- CE conformity