俊尚科技股份有限公司

高溫工作環境專用膜厚監控計

你可否遇到每次打開蒸鍍源Shutter的瞬間,觀測到膜厚監控計上因 Thermal Shcok Effect 造成石英晶片震盪頻率突然出現劇烈跳動現象,並對此現象感到困擾但又沒有解決方式嘛?對MBE或ALD等超薄膜沈積的技術中,任何石英晶片因其他因素而造成的頻率變化,將不可避免地會導致誤判膜厚值,如何能避免此現象對研究人員非常重要。

 

您的研究是否在高溫的真空環境下進行呢?如果是,您一定有觀察到一般石英晶片在超過100度時因溫度而造成的干擾,對於需要穩定、精密量測膜厚的應用領域,例如:ALD、MBE、OLED、CIGS等,將有嚴重的干擾。俊尚科技提供您在高溫下依舊有穩定且精確表現的石英晶片,將您的研究境界提昇到另一個層次。

 

俊尚科技提供您新一代更完整的膜厚監控方案,讓您在研究或開發新產品的過程中,有更穩定、更精確的表現,並可在高溫環境下依舊無比穩定、無比精確。完整的技術解決方案介紹如下:

 

Crystals    Sensor Heads    Thickness Monitor & Controller

 

(第 1 頁, 共 4 頁)